СайтГоризонтальная кварцевая лодка Специально разработан для безопасной и точной обработки пластин в горизонтальных печах, широко используется для процессов окисления, диффузии и отжига в производстве полупроводниковых пластин диаметром 200 мм. Изготовленный из кварца с высоким содержанием плавления, он обеспечивает выдающуюся термическую устойчивость, коррозионную устойчивость и точность размеров.

Горизонтальная конструкция обеспечивает равномерное выравнивание и расстояние между пластинами вдоль оси трубки печи, что позволяет оптимизировать динамику газового потока и стабильную термическую обработку каждой пластины. Жёсткая конструкция с низким содержанием загрязнения минимизирует деформации при высоких температурах, помогая сохранять целостность процесса и снижая образование частиц.

Использование горизонтальных кварцевых лодок в диффузии, окислении и CVD

Горизонтальные кварцевые лодки являются необходимыми инструментами в производстве полупроводников, предназначенными для надёжного хранения и транспортировки пластин во время высокотемпературных процессов, таких как диффузия, окисление и осаждение в CVD. Изготовленные из высокочистого кварца, эти лодки обеспечивают минимальное загрязнение, сохраняя целостность чувствительных пластин на протяжении всего процесса.

Горизонтальное расположение позволяет пластинам лежать ровно, что способствует равномерному распределению тепла и постоянному воздействию технологических газов. Эта конструкция помогает снизить температурные градиенты, обеспечивает равномерное легирование или окисление, а также улучшает общий выход процесса. Гладкие, малопримесные поверхности минимизируют образование частиц, поддерживая стандарты чистых помещений и защищая деликатные поверхности пластин.

Прочные и термически устойчивые, высококачественные горизонтальные кварцевые лодки выдерживают многократные термические циклы без деформации или трещин. Выбирая подходящую горизонтальную кварцевую лодку, полупроводниковые фабрики и исследовательские центры могут оптимизировать однородность пластин, максимизировать пропускную способность и поддерживать строгий контроль процессов в приложениях диффузии, окисления и CVD.